Horizontalna plošča za čoln iz silicijevega karbida

Vodoravna plošča za čoln iz silicijevega karbida Predstavljena slika

Kratek opis:

Semicera ponuja napolitanke, nosilecin nosilci rezin po meri za navpične/stolpne in vodoravne konfiguracije.Napredna keramika zagotavlja odlično toplotno odpornost in plazemsko vzdržljivost, hkrati pa zmanjšuje delce in onesnaževala.Polprevodniški silicijev karbid (SiC) zagotavlja tudi visokotemperaturno trdnost za visoko zmogljive nosilce rezin.

Pošljite nam e-pošto

Podrobnosti o izdelku

Oznake izdelkov

Predstavljamo našo najsodobnejšo vodoravno ploščo iz silicijevega karbida, ki je natančno zasnovana za aplikacije za obdelavo rezin v industriji polprevodnikov.Naša vodoravna plošča za čolne, izdelana iz najboljšega silicijevega karbida, izstopa po vrhunskih toplotnih lastnostih, kemični odpornosti in mehanski trdnosti.Ta plošča za čoln je idealna za visokotemperaturne procese in je zasnovana tako, da zagotavlja izjemno zmogljivost ter zagotavlja natančnost in učinkovitost pri vsaki uporabi.

Ključne funkcije

Izjemna vzdržljivost:Izdelan iz silicijevega karbida visoke čistosti, našega plošča za čolnje zasnovan tako, da prenese ekstremne temperature do1600°C, ki nudi neprimerljivo vzdržljivost in življenjsko dobo.

Enakomerna porazdelitev toplote:Toplotna prevodnost silicijevega karbida zagotavlja enakomerno porazdelitev toplote po plošči, kar je ključnega pomena za ohranjanje doslednosti postopka in doseganje visokokakovostne proizvodnje rezin.

Kemična odpornost:Naša ladijska plošča, ki je odporna na jedke kemikalije in težka okolja, ohranja celovitost in zmogljivost tudi v najzahtevnejših aplikacijah za obdelavo polprevodnikov.

Visoka mehanska trdnost:Robustna konstrukcija našegaplošča za čolnzagotavlja odlično mehansko trdnost in odpornost proti obrabi, kar zmanjšuje tveganje poškodb in potrebo po pogostih menjavah.

Aplikacije:

NašHorizontalna plošča za čoln iz silicijevega karbidaje kot nalašč za široko paleto visokotemperaturnih procesov v proizvodnji polprevodnikov, vključno z difuzijo, oksidacijo, ionsko implantacijo in CVD procesi, vendar ne omejeno nanje.Njegova zasnova in materiali zagotavljajo, da lahko podpira natančne zahteve obdelave rezin, zaradi česar je bistvena komponenta za proizvodne linije polprevodnikov.

O nas