SiC Wafer Boat
Čoln za rezine iz silicijevega karbidaje nosilna naprava za rezine, ki se uporablja predvsem v solarnih in polprevodniških difuzijskih procesih.Ima značilnosti, kot so odpornost proti obrabi, odpornost proti koroziji, odpornost na udarce pri visoki temperaturi, odpornost na plazemsko bombardiranje, visoka temperaturna nosilnost, visoka toplotna prevodnost, visoko odvajanje toplote in dolgotrajna uporaba, ki je ni enostavno upogniti in deformirati.Naše podjetje uporablja material iz silicijevega karbida visoke čistosti, da zagotovi življenjsko dobo in nudi prilagojene modele, vključno z.različne vertikalne in horizontalnečoln napolitanke.
SiC veslo
Thekonzolno veslo iz silicijevega karbidase uporablja predvsem pri (difuzijski) prevleki silicijevih rezin, ki igra ključno vlogo pri nakladanju in transportu silicijevih rezin pri visoki temperaturi.Je ključna sestavinapolprevodniška rezinanakladalne sisteme in ima naslednje glavne značilnosti:
1. Ne deformira se v okoljih z visoko temperaturo in ima visoko obremenitveno silo na rezinah;
2. je odporen na ekstremni mraz in hitro vročino ter ima dolgo življenjsko dobo;
3. Koeficient toplotnega raztezanja je majhen, kar močno podaljša cikel vzdrževanja in čiščenja ter znatno zmanjša onesnaževala.
SiC pečna cev
Procesna cev iz silicijevega karbida, izdelan iz SiC visoke čistosti brez kovinskih primesi, ne onesnažuje rezine in je primeren za postopke, kot so polprevodniška in fotovoltaična difuzija, žarjenje in oksidacijski proces.
SiC robotska roka
SiC robotska roka, znan tudi kot končni efektor za prenos rezin, je robotska roka, ki se uporablja za transport polprevodniških rezin in se pogosto uporablja v industriji polprevodnikov, optoelektroniki in sončni energiji.Uporaba silicijevega karbida visoke čistosti z visoko trdoto, odpornostjo proti obrabi, potresno odpornostjo, dolgotrajno uporabo brez deformacij, dolgo življenjsko dobo itd., lahko zagotovi storitve po meri.
Grafit za rast kristalov
Grafitni toplotni ščit
Grafitna elektrodna cev
Grafitni deflektor
Grafitna vpenjalna glava
Vsi postopki, ki se uporabljajo za gojenje polprevodniških kristalov, potekajo v visokotemperaturnem in korozivnem okolju.Vroče območje peči za rast kristalov je običajno opremljeno z visoko čistostjo, odporno na toploto in korozijo.grafitne komponente, kot so grafitni grelniki, lončki, valji, deflektorji, vpenjalne glave, cevi, obroči, držala, matice itd. Naš končni izdelek lahko doseže vsebnost pepela manj kot 5 ppm.
Grafit za polprevodniško epitaksijo
Grafitna podlaga
Grafitni epitaksialni sod
Monocry Stalline Silicon Epitaxial Base
Grafitni deli MOCVD
Polprevodniška grafitna napeljava
Epitaksialni postopek se nanaša na rast monokristalnega materiala na enokristalnem substratu z enako razporeditvijo rešetke kot substrat.Zahteva veliko grafitnih delov ultra visoke čistosti in grafitne osnove s SIC prevleko.Grafit visoke čistosti, ki se uporablja za polprevodniško epitaksijo, ima širok spekter uporabe, ki se lahko ujema z najpogosteje uporabljeno opremo v industriji. Hkrati ima izjemno visoko.čistost, enakomeren premaz, odlična življenjska doba ter izjemno visoka kemična odpornost in toplotna stabilnost.
Izolacijski material in drugo
Toplotnoizolacijski materiali, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov, so grafitna trda klobučevina, mehka klobučevina, grafitna folija, ogljikovi kompozitni materiali itd. Naše surovine so uvoženi grafitni materiali, ki jih je mogoče razrezati po specifikaciji strank in jih lahko tudi prodajamo kot cela.Ogljikov kompozitni material se običajno uporablja kot nosilec za proces proizvodnje solarnih monokristalov in polisilicijevih celic.