Dobra stabilnost, visokotemperaturno odporna cev za peč iz silicijevega karbida

Dobra stabilnost, visoka temperatura odporna cev za peč iz silicijevega karbida Predstavljena slika

Kratek opis:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. je vodilni dobavitelj, specializiran za rezine in napredne polprevodniške potrošne materiale.Predani smo zagotavljanju visokokakovostnih, zanesljivih in inovativnih izdelkov za proizvodnjo polprevodnikov,fotovoltaična industrijain druga sorodna področja.

Naša linija izdelkov vključuje grafitne izdelke s prevleko iz SiC/TaC in keramične izdelke, ki zajemajo različne materiale, kot so silicijev karbid, silicijev nitrid in aluminijev oksid itd.

Kot zaupanja vreden dobavitelj razumemo pomen potrošnega materiala v proizvodnem procesu in smo predani zagotavljanju izdelkov, ki izpolnjujejo najvišje standarde kakovosti, da bi izpolnili potrebe naših strank.

Pošljite nam e-pošto

Podrobnosti o izdelku

Oznake izdelkov

Silicijev karbid je nova vrsta keramike z visoko stroškovno učinkovitostjo in odličnimi lastnostmi materiala.Zaradi lastnosti, kot so visoka trdnost in trdota, odpornost na visoke temperature, odlična toplotna prevodnost in odpornost proti kemični koroziji, lahko silicijev karbid skoraj prenese vse kemične medije.Zato se SiC pogosto uporablja v rudarstvu nafte, kemikalijah, strojih in zračnem prostoru, celo jedrska energija in vojska ima posebne zahteve glede SIC.Nekatere običajne uporabe, ki jih lahko ponudimo, so tesnilni obroči za črpalko, ventil in zaščitni oklep itd.

Sposobni smo oblikovati in izdelati po vaših posebnih dimenzijah z dobro kakovostjo in razumnim časom dostave.

Lahko zagotovimo stabilno in zanesljivokristalni čolni iz silicijevega karbida,vesla iz silicijevega karbida,cevi za peč iz silicijevega karbidaza 4- do 6-palčno industrijo polprevodniških rezin.Čistost lahko doseže 99,9 % brez onesnaženja rezin.

Difuzijska cev iz silicijevega karbida (2)

Cev za peč iz silicijevega karbidase uporablja predvsem za: 4-6-palčne silicijeve rezine LTO = silicijev dioksid, SIPOS = oksi-polisilicij, SI3N4 = silicijev nitrid, PSG = fosfosilikonsko steklo, POLY = rast polisilicijevega filma.To je plin surovine (ali uplinjanje tekočega vira), ki se aktivira s toplotno energijo, da ustvari trden film na površini substrata.Nizkotlačno kemično nanašanje s paro se izvaja pri nizkem tlaku, zaradi nizkega tlaka je povprečna prosta pot molekul plina velika, tako da je enakomernost gojenega filma dobra, substrat pa je mogoče postaviti navpično in količino obremenitev je velika, še posebej primerna za obsežna integrirana vezja, diskretne naprave, močnostno elektroniko, optoelektronske naprave in optična vlakna ter druge industrije industrijske proizvodnje posebne opreme.

Aplikacije:

- Polje, odporno na obrabo: puša, plošča, šoba za peskanje, obloga ciklona, brusilni sod itd.

-Visokotemperaturno polje: siC plošča, cev peči za kaljenje, sevalna cev, lonček, grelni element, valj, žarek, izmenjevalnik toplote, cev za hladen zrak, šoba za gorilnik, zaščitna cev za termočlen, čoln iz SiC, konstrukcija avtomobila peči, seter itd.

-Vojaško neprebojno polje

- Polprevodnik iz silicijevega karbida: čoln za rezine SiC, vpenjalna glava, veslo, kaseta, difuzijska cev, vilice za rezine, sesalna plošča, vodilo itd.

-Polje tesnil iz silicijevega karbida: vse vrste tesnilnih obročev, ležajev, puš itd.

-Fotovoltaično polje: konzolno veslo, brusilni sod, valj iz silicijevega karbida itd.

-Polje litijeve baterije