Opis
Grelec substrata MOCVD, grelni elementi za MOCVD
Grafitni grelec:
Komponente grafitnega grelnika se uporabljajo v visokotemperaturni peči s temperaturo, doseženo 2200 stopinj v vakuumskem okolju in 3000 stopinj v deoksidiranem in vstavljenem plinskem okolju.
Glavne značilnosti grafitnega grelnika
1. enakomernost ogrevalne strukture.
2. dobra električna prevodnost in velika električna obremenitev.
3. odpornost proti koroziji.
4. neoksidiranost.
5. visoka kemična čistost.
6. visoka mehanska trdnost.
Prednost je energetska učinkovitost, visoka vrednost in malo vzdrževanja.
Izdelujemo lahko grafitni lonček z antioksidacijo in dolgo življenjsko dobo, grafitni kalup in vse dele grafitnega grelnika.
Kemični grafit
Prednost: odpornost na visoke temperature
Uporaba: MOCVD/vakuumska peč/vroča cona
Nasipna gostota: 1,68-1,91 g/cm3
Upogibna trdnost: 30-46Mpa
Upornost: 7-12μΩm
Glavni parametri grafitnega grelnika
| Tehnična specifikacija | VET-M3 |
| Nasipna gostota (g/cm3) | ≥1,85 |
| Vsebnost pepela (PPM) | ≤500 |
| Trdota po Shoru | ≥45 |
| Specifična upornost (μ.Ω.m) | ≤12 |
| Upogibna trdnost (Mpa) | ≥40 |
| Tlačna trdnost (Mpa) | ≥70 |
| maks. Velikost zrn (μm) | ≤43 |
| Koeficient toplotnega raztezanja Mm/°C | ≤4,4*10-6 |
Grafitni grelec za električno peč ima lastnosti toplotne odpornosti, odpornosti proti oksidaciji, dobre električne prevodnosti in boljše mehanske intenzivnosti. Izdelamo lahko različne vrste grafitnih grelnikov po načrtih strank.
Profil podjetja
WeiTai Energy Technology Co., Ltd. je vodilni dobavitelj napredne polprevodniške keramike in edini proizvajalec na Kitajskem, ki lahko hkrati zagotovi keramiko iz silicijevega karbida visoke čistosti (zlasti rekristaliziran SiC) in CVD SiC prevleko. Poleg tega je naše podjetje zavezano tudi področjem keramike, kot so aluminijev oksid, aluminijev nitrid, cirkonijev oksid in silicijev nitrid itd.
Naši glavni proizvodi vključujejo: disk za jedkanje iz silicijevega karbida, vleko za čoln iz silicijevega karbida, čoln za rezine iz silicijevega karbida (fotovoltaika in polprevodnik), cev za peč iz silicijevega karbida, konzolno lopatico iz silicijevega karbida, vpenjalne glave iz silicijevega karbida, nosilec iz silicijevega karbida, kot tudi CVD SiC prevleko in TaC premazovanje. Izdelki, ki se večinoma uporabljajo v polprevodniški in fotovoltaični industriji, kot so oprema za rast kristalov, epitaksija, jedkanje, pakiranje, premazovanje in difuzijske peči itd.
Naše podjetje ima celotno proizvodno opremo, kot so oprema za oblikovanje, sintranje, predelavo, premazovanje itd., ki lahko dokonča vse potrebne povezave proizvodnje izdelkov in ima večjo kontrolo kakovosti izdelkov; Optimalen načrt proizvodnje je mogoče izbrati glede na potrebe izdelka, kar ima za posledico nižje stroške in strankam zagotavlja bolj konkurenčne izdelke; Proizvodnjo lahko fleksibilno in učinkovito načrtujemo na podlagi zahtev glede dostave naročila in v povezavi s spletnimi sistemi za upravljanje naročil, kar strankam zagotavlja hitrejši in bolj zajamčen čas dostave.
