Semicera zagotavlja specializirane prevleke iz tantalovega karbida (TaC) za različne komponente in nosilce.Vodilni postopek nanosa Semicera omogoča, da prevleke iz tantalovega karbida (TaC) dosežejo visoko čistost, visoko temperaturno stabilnost in visoko kemično toleranco, s čimer izboljšajo kakovost izdelkov kristalov SIC/GAN in plasti EPI (TaC suceptor prevlečen z grafitom) in podaljšanje življenjske dobe ključnih komponent reaktorja.Uporaba prevleke TaC iz tantalovega karbida je namenjena reševanju problema robov in izboljšanju kakovosti rasti kristalov, Semicera pa je prelomno rešila tehnologijo prevleke iz tantalovega karbida (CVD) in dosegla mednarodno napredno raven.
S pojavom 8-palčnih rezin iz silicijevega karbida (SiC) so zahteve za različne polprevodniške postopke postale vse strožje, zlasti za postopke epitaksije, kjer lahko temperature presežejo 2000 stopinj Celzija.Tradicionalni suceptorski materiali, kot je grafit, prevlečen s silicijevim karbidom, pri teh visokih temperaturah ponavadi sublimirajo, kar moti postopek epitaksije.Vendar CVD tantalov karbid (TaC) učinkovito rešuje to težavo, saj prenese temperature do 2300 stopinj Celzija in ponuja daljšo življenjsko dobo.Kontakt Semicera's Tantalov karbidni premaz Polmesecda raziščete več o naših naprednih rešitvah.
z in brez TaC
Po uporabi TaC (desno)
Še več, Semicera'sIzdelki, prevlečeni s TaCimajo daljšo življenjsko dobo in večjo odpornost na visoke temperature v primerjavi zSiC prevleke.Laboratorijske meritve so pokazale, da našTaC premazilahko dosledno deluje pri temperaturah do 2300 stopinj Celzija daljša obdobja.Spodaj je nekaj primerov naših vzorcev:
TaC prevlečen suceptor
Grafit z reaktorjem, prevlečenim s TaC
-
Grafitni pokrov, prevlečen s tantalovim karbidom
-
Visokokakovostna prevleka iz tantalovega karbida (TaC).
-
Prstan s prevleko iz tantalovega karbida
-
Grafitni prstan, prevlečen s tantalovim karbidom
-
Grafitni pokrov, prevlečen s tantalovim karbidom (TaC).
-
Vodilni obroč za CVD prevleko iz tantalovega karbida