41 delov opreme MOCVD s 4-palčnim grafitnim podstavkom

Kratek opis:

Predstavitev in uporaba izdelka: Postavljenih 41 kosov 4-urnega substrata, ki se uporablja za gojenje LED z modro-zelenim epitaksialnim filmom

Lokacija izdelka v napravi: v reakcijski komori, v neposrednem stiku z rezino

Glavni nadaljnji izdelki: LED čipi

Glavni končni trg: LED


Podrobnosti o izdelku

Oznake izdelkov

Opis

Naše podjetje zagotavljaSiC prevlekaprocesne storitve z metodo CVD na površini grafita, keramike in drugih materialov, tako da posebni plini, ki vsebujejo ogljik in silicij, reagirajo pri visoki temperaturi, da dobimo molekule SiC visoke čistosti, molekule, ki se nanesejo na površino prevlečenih materialov in tvorijoSiC zaščitna plast.

41 delov opreme MOCVD s 4-palčnim grafitnim podstavkom

Glavne značilnosti

1. Odpornost proti oksidaciji pri visoki temperaturi:
odpornost proti oksidaciji je še vedno zelo dobra, ko temperatura doseže 1600 ℃.
2. Visoka čistost: narejeno s kemičnim naparjevanjem v pogojih kloriranja pri visoki temperaturi.
3. Odpornost proti eroziji: visoka trdota, kompaktna površina, drobni delci.
4. Odpornost proti koroziji: kisline, alkalije, sol in organski reagenti.

 

Glavne specifikacije prevleke CVD-SIC

SiC-CVD lastnosti
Kristalna struktura FCC β faza
Gostota g/cm³ 3.21
Trdota Trdota po Vickersu 2500
Velikost zrn μm 2~10
Kemijska čistost % 99,99995
Toplotna zmogljivost J·kg-1 ·K-1 640
Temperatura sublimacije 2700
Feleksuralna moč MPa (RT 4-točkovno) 415
Youngov modul Gpa (upogib 4 točke, 1300 ℃) 430
Toplotna ekspanzija (CTE) 10-6K-1 4.5
Toplotna prevodnost (W/mK) 300
Delovno mesto Semicera
Delovno mesto Semicera 2
Stroj za opremo
CNN obdelava, kemično čiščenje, CVD premaz
Semicera Ware House
Naše storitve

  • Prejšnja:
  • Naprej: